GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機(jī)系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機(jī),硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機(jī),硫酸頭孢喹咪混懸液研磨分散機(jī),透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
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zui終產(chǎn)品: 混懸液
用途: 混懸液
工藝要求: 與藥物接觸部分為
原材料: 硫酸頭孢喹肟
液體(%): 三乙酸甘油酯、氫化蓖麻油、丙二醇
固體(%): 硫酸頭孢喹肟
密度(kg/m3): 1.05 溫度(℃): 35
將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐,加適量三乙酸甘油酯,經(jīng)研磨分散機(jī)進(jìn)行分散均勻,加入丙二醇,混合均勻。
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1、因該機(jī)轉(zhuǎn)、定子間隙不可調(diào),是否適用于制備以以上附加劑的混懸劑?
2、該機(jī)粉碎以上附加劑,會(huì)不會(huì)造成定轉(zhuǎn)子接觸部分磨損?
3、該機(jī)能否實(shí)現(xiàn)細(xì)碎至通過顆粒直徑100%小于50um。其中D95<20um,D90<10um,D80<5um目的?
細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。
研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫?,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機(jī)的型號(hào)
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%。 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 硫酸頭孢喹肟注射液研磨分散機(jī) 硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機(jī) 硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機(jī) 進(jìn)口研磨分散機(jī) 研磨分散機(jī)