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  • GMD2000多空氧化鎂高剪切分散機
    多空氧化鎂高剪切分散機

    多空氧化鎂高剪切分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以物料分散的均勻,沉析纖維成絲狀。

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  • GMD2000醇類硅溶膠高剪切研磨分散機
    醇類硅溶膠高剪切研磨分散機

    醇類硅溶膠高剪切研磨分散機可以處理量大,運轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*

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  • GMD2000超微礦物混懸液研磨分散機
    超微礦物混懸液研磨分散機

    超微礦物混懸液研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • GRS2000肌酸粉高剪切混合分散機
    肌酸粉高剪切混合分散機

    肌酸粉高剪切混合分散機由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。

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  • GRS2000滅菌混懸注射液研磨分散機
    滅菌混懸注射液研磨分散機

    滅菌混懸注射液研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • GRS2000奧卡西平片劑高剪切分散機
    奧卡西平片劑高剪切分散機

    奧卡西平片劑高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • GMD2000二氧化鈦超高速研磨分散機
    二氧化鈦超高速研磨分散機

    二氧化鈦超高速研磨分散機定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • GMD2000無機彩色顏料研磨分散機
    無機彩色顏料研磨分散機

    無機彩色顏料研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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